經(jīng)曝光后，光致抗氮吹儀價(jià)格蝕劑層中一部分發(fā)生了光交聯(lián)或光降解，因而使其溶解性 發(fā)生了變化。選擇適當(dāng)?shù)娜軇?，把光刻膠層中可溶性部分溶解掉，使不溶性部分 保留下來(lái)，這就在光刻膠層上顯示出了與掩模相應(yīng)的圖案，或者說(shuō)把掩模上的圖 案復(fù)制到了光致抗蝕劑層上來(lái)。這一步就稱為顯影，這是從普通照相術(shù)中引用 過(guò)來(lái)的術(shù)語(yǔ)。顯影這步的關(guān)鍵在于選擇適當(dāng)?shù)娘@影液、顯影溫度和顯影時(shí)間。 這三個(gè)因素是彼此關(guān)聯(lián)，相互影響的，而且隨光刻膠的種類、特性及膠層的厚度 不同應(yīng)有所改變的，一般需通過(guò)條件試驗(yàn)摸索出來(lái)。 　　顯影以后需進(jìn)行漂洗，把殘留在膠層表面的顯影液漂洗干凈。良好的漂洗 　第二講　光刻技術(shù)和光致抗蝕劑３９９ 還能消除在顯影過(guò)程中光刻膠的溶脹和形變，從而改善成像的精度。 　?。叮畧?jiān)膜 　　經(jīng)過(guò)顯影后，不溶性的光刻膠部分雖然保留了下來(lái)，但由于顯影液的浸泡而 變軟，甚至有些溶脹和微小變形，膠層與基材間的粘著力也降低了。因而需要在 １

８０～２００℃溫度下烘烤３０ｍｉｎ左右，把滲入到膠層中的微量顯影液或水分趕 走。使光刻膠層上的圖形恢復(fù)原來(lái)的尺寸。并使光刻膠本身進(jìn)一步熱交聯(lián)，提 高光刻膠本身的強(qiáng)度和耐腐蝕性。同時(shí)也改善光刻膠與襯底間的粘著強(qiáng)度。這 一步稱為堅(jiān)膜，也稱為后烘。 　　堅(jiān)膜時(shí)應(yīng)注意控制合適的溫度和時(shí)間。若堅(jiān)膜溫度太低，時(shí)間過(guò)短，則膠膜 沒(méi)有烘透，膜不堅(jiān)固，腐蝕時(shí)易產(chǎn)生脫膠現(xiàn)象。若堅(jiān)膜溫度過(guò)高，時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，膠膜 會(huì)因熱膨脹而產(chǎn)生翹曲和剝落，腐蝕時(shí)亦會(huì)造成鉆蝕或脫膠。堅(jiān)膜最好采用緩 慢升溫和自然冷卻的烘烤過(guò)程。對(duì)于腐蝕時(shí)間較長(zhǎng)的厚膜刻蝕，可在腐蝕一半 后再進(jìn)行一次堅(jiān)膜后再腐蝕，以提高膠膜的強(qiáng)度和抗蝕力。 　　７．蝕刻 　　蝕刻又稱腐蝕，是光刻技術(shù)中關(guān)鍵的一步。前面所述各步都是為這一步做 準(zhǔn)備，是為這一步服務(wù)的。光刻技術(shù)的目的就是要在被加工的襯底材料（如硅 片）表面刻制出指定的圖案，以便進(jìn)行后道加工，而這種刻制工作是通過(guò)選擇性 腐蝕來(lái)進(jìn)行的，利用光致抗蝕劑的抗腐蝕作用，可以保護(hù)襯底材料不受腐蝕。通 過(guò)前面述及的各步，人們已經(jīng)在需刻蝕的基片表面的光致抗蝕劑層上成功地制 得了特定的圖案。現(xiàn)在基片表面一部分區(qū)域中有光致抗蝕劑保護(hù)的，而其余部 分則是沒(méi)有抗蝕劑保護(hù)的。選擇某種合適的腐蝕劑，能腐蝕基片材料，但對(duì)抗蝕 劑不起作用，把經(jīng)顯影、堅(jiān)膜后的

基片置于這種腐蝕液中，就可實(shí)現(xiàn)選擇性的腐 蝕，把抗蝕劑層上的圖案復(fù)制到基片上。這一步就稱為蝕刻。 　　腐蝕的關(guān)鍵首先在于選擇合適的腐蝕劑。腐蝕劑必須能對(duì)被蝕刻材料進(jìn)行 腐蝕，但對(duì)抗蝕劑不起作用。這是最基本的必要條件，除此以外還應(yīng)考慮到對(duì)設(shè) 備的腐蝕性，對(duì)操作工人的完全保護(hù)以及操作的簡(jiǎn)單易行等因素。在選定了腐 蝕劑化學(xué)配方后，還應(yīng)根據(jù)刻蝕的具體要求選定合適的工藝條件，主要是刻蝕劑 的濃度，刻蝕時(shí)的溫度以及刻蝕的時(shí)間。這些都是為了控制一個(gè)合適的腐蝕速 率。另外人們希望腐蝕時(shí)只在被刻蝕表面上垂直向內(nèi)部縱深腐蝕，而應(yīng)盡量避 免側(cè)向腐蝕，以及向抗蝕劑膠膜保護(hù)下的部分進(jìn)行鉆蝕，因?yàn)閭?cè)向腐蝕和鉆蝕都 將使蝕刻圖形的線條變寬，精度降低。一般常用腐蝕因子Ｆ來(lái)表示腐蝕的質(zhì) 量：Ｆ＝（腐蝕深度）／（側(cè)向腐蝕寬度）。如Ｆ值大則表明腐蝕效果良好。一般Ｆ 值在０．５～２．５范圍間，通常Ｆ＝１時(shí)即可用于實(shí)際生產(chǎn)。 　　腐蝕劑的選擇因被腐蝕材料的不同而不同，例如，腐蝕硅用硝酸和氫氟酸的 混合液；腐蝕二氧化硅用氫氟酸與氟化銨的混合液；腐蝕鋁用磷酸或高錳酸鉀；